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產(chǎn)品詳情

衍射光柵--平面基板聚焦光柵

產(chǎn)品描述：

   LightSmyth平面基板聚焦光柵外腔半導體激光器的使用應用實例示意圖：（a）光柵具備外耦合并提供反饋功能； （b）光柵通過二極管底部平面反饋

   LightSmyth技術家族的基板平面聚焦光柵設計用于外腔激光器。光柵聚焦光輸入信號的同時進行光譜分散。聚焦功能納入全息光柵，通過使用彎曲的和可變間隔光柵線的設計原則。整合對焦功能而不是通過全息光譜色散的彎曲基板或鏡頭使用以致減少系統(tǒng)元件數(shù)目，有利于設備小型化。

平面基板聚焦光柵廣泛用于光電子譜和一般的應用光學。例如，光纖耦合的微型光譜儀可以建立以zui少的元件數(shù)量：輸入光纖，聚焦光柵和輸出探測器陣列。這種光譜儀可提供幾百納米的納米級分辨率，占位面積小于15×15毫米的光譜范圍。

   LightSmyth平面基板聚焦光柵優(yōu)化用于外腔半導體激光器（ECDL）系統(tǒng)，系統(tǒng)提供反饋，從而進行頻率選擇性激光穩(wěn)頻和縮小線寬。光柵設計為ECDLs采用利特洛配置和集中的第一級衍射光束的背面朝向激光提供可調鎖定反饋。光柵的焦距短（3.75毫米），以促進大的縱模間隔，方便啟用寬范圍的單模式調諧。

   對光柵刻線深度和占空比進行了優(yōu)化，提供zui大的衍射效率。每個光柵均是母光柵，避免復制光柵的缺陷。光柵表面進行清潔和耐磨設計。

平面聚焦光柵陣列
光柵刻線示意圖
標準平面聚集光柵：

◆ 所有光柵的焦距為3.75毫米。

◆ 光柵的設計通過第一衍射級提供激光反饋。

◆ 光柵和激光二極管的前端面之間的工作距離為d =7.5毫米，可用于所有光柵。

◆ 硅基底具有0.73毫米厚度。

◆ 基板的高度和寬度公差是0.3毫米。

◆ 光柵基片：單晶硅。

◆ 光柵鍍膜：鋁（其它鍍膜類型額外收費）。 


Design
Wavelength

Design Input
Polarization1

Incidence
Angle1 φ

Approx. Line
Density2 
(l/mm)

Size 1
(w × h)

Part number

405 nm

s

40 °

3175

6 mm × 3 mm

SCG-405S-0603A-Al

405 nm

p

45 °

3640

3 mm × 6 mm

SCG-405P-0306A-Al

635 nm

s

40 °

2028

6 mm × 3 mm

SCG-635S-0603A-Al

635 nm

p

65 °

2857

3 mm × 6 mm

SCG-635P-0306A-Al

780 nm

p

60 °

2222

3 mm × 6 mm

SCG-780P-0306A-Al

1 See Figure 1 for design layout and illustration of parameters.

2 At grating midpoint.

3 For orders with the total product value below $250.00, a handling charge of $75.00 will be added, otherwise the handling fee is $5.00.

4 Example of price calculation for 200 unit order: $90*99 (first 99 units)+ $75*101(100+ units)


圖1b. 光柵對輸入偏振（極化垂直于光柵線）的布局示意圖。 D-工作距離，H-光柵高度，W-光柵寬度
圖1a. 光柵的示意性布局的S-輸入偏振（平行于光柵線）D-工作距離，H-光柵高度，W-光柵  寬度
定制硅聚焦光柵：

   我們的光學工程師很樂意和您一起討論定制平面基板聚焦光柵的解決方案，包括波長或波長范圍，請電話聯(lián)系LightSmyth亞太區(qū)銷售代表（王秀祥）/+86-13918813416或將需求問題郵件發(fā)送至moli@microphotons.com咨詢更多技術信息。