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光學(xué)級(jí)硅通常規(guī)定為具有5至40ohm-cm的電阻率,其電阻率比大多數(shù)半導(dǎo)體的都高。 非常高的電阻率材料可客戶定制,特別是對(duì)于TeraHertz應(yīng)用。通常的材料為CZ,其在9μm具有Si-O吸收帶,因此如果在3至5μm光譜帶中使用該窗口,則此性質(zhì)不重要。 如果需要FZ,可以提供沒有這種吸收的浮區(qū)材料。
硅主要用作3至5um波段的光學(xué)窗口并用作光學(xué)濾波器的制片基底。 具有拋光面的大塊硅也用作物理實(shí)驗(yàn)中的中子靶。
硅通過Czochralski拉伸技術(shù)(CZ)生長并且包含一些導(dǎo)致9um的吸收帶的氧。 為了避免這種情況,硅可以通過浮區(qū)(FZ)工藝制備。 光學(xué)硅通常輕摻雜(5~40 Ohm cm),以在10um以上的波段zui佳透射。 硅具有30至100um的另一通帶,其僅在非常高電阻率的未補(bǔ)償材料中有效。 摻雜通常是硼(p型)和磷(n型)。
透射范圍: |
1.215μm(1) |
折射率: |
3.4223 @5μm(1)(2) |
反射損耗: |
46.2%(5μm)(2個(gè)表面) |
吸收系數(shù): |
0.01cm -1 at 3μm |
吸收峰: |
n / a |
dn / dT: |
160×10-6 /℃(3) |
dn /dμ= 0: |
10.4μm |
密度: |
2.33g / cc |
熔點(diǎn): |
1420℃ |
熱導(dǎo)率: |
273.3W m-1 K-1 |
熱膨脹: |
2.6×10 -6 /℃ at 20℃ |
硬度: |
Knoop 1150 |
比熱容: |
703JKg-1K-1 |
介電常數(shù): |
13 at 10GHz |
楊氏模量(E): |
131GPa(4) |
剪切模量(G): |
79.9GPa(4) |
體積模量(K): |
102GPa |
彈性系數(shù): |
C11 = 167; C12 = 65; C44 = 80(4) |
表觀彈性極限: |
124.1MPa(18000 psi) |
泊松比: |
0.266(4) |
溶解性: |
不溶于水 |
分子量: |
28.09 |
類別/結(jié)構(gòu): |
立方鉆,Fd3m |
光譜透射曲線:
折射率:(No = Ordinary Ray)
um |
No |
um |
No |
um |
No |
1.357 |
3.4975 |
1.367 |
3.4962 |
1.395 |
3.4929 |
1.5295 |
3.4795 |
1.660 |
3.4696 |
1.709 |
3.4664 |
1.813 |
3.4608 |
1.970 |
3.4537 |
2.153 |
3.4476 |
2.325 |
3.4430 |
2.714 |
3.4358 |
3.000 |
3.4320 |
3.303 |
3.430 |
3.500 |
3.4284 |
4.000 |
3.4257 |
4.258 |
3.4245 |
4.500 |
3.4236 |
5.000 |
3.4223 |
5.500 |
3.4213 |
6.000 |
3.4202 |
6.500 |
3.4195 |
7.000 |
3.4189 |
7.500 |
3.4186 |
8.000 |
3.4184 |
8.500 |
3.4182 |
10.00 |
3.4179 |
10.50 |
3.4178 |
11.04 |
3.4176 |
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IR Polished Silicon (Si) ATR prism (Attenuated Total Reflection)
52 x 20 x 2mm 45° ATR prism.
梯形
IR Polished Silicon (Si) ATR prism (Attenuated Total Reflection)
80 x 10 x 4mm 45° ATR prism.
梯形